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CVD系統

更新時(shí)間:2013-07-04    點(diǎn)擊次數:7299

天津中環(huán)高真空CVD系統電爐是一家集研發(fā)、生產(chǎn)制造、營(yíng)銷(xiāo)服務(wù)為一體的的實(shí)驗室電爐工作系統解決方案的提供者。作為實(shí)驗室電加熱設備的生產(chǎn)廠(chǎng)家,在實(shí)驗室電爐行業(yè)國內市場(chǎng)一直保持著(zhù)地位,并成為*品牌。

通過(guò)公司技術(shù)人員的開(kāi)發(fā),zui近研制出多套CVD系統,高真空CVD系統在碳納米材料,真空鍍膜領(lǐng)域廣泛使用,PE獲得客戶(hù)廣泛好評。

CVD系統產(chǎn)品的特點(diǎn):
1 CVD
系統兼容、常壓、微正壓多種主流的生長(cháng)模式
2 CVD
系統可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(cháng)
3 CVD
系統使用計算機控制,可以設置多種生長(cháng)參數
4 CVD
系統可以制備高質(zhì)量,大面積石墨烯等碳材料,尺寸可達數厘米,研究動(dòng)力學(xué)過(guò)程
5 CVD
系統沉積效率高;薄膜的成分可控,配比范圍大;厚度范圍廣,由幾百埃至數毫米,可以實(shí)現厚膜沉積且能大量生產(chǎn)

 

佛爐

  

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